標(biāo)準(zhǔn)編號:	GB/T 6621-1995
中文名稱:	硅拋光片表面平整度測試方法
英文名稱:	Test methods for surface flatness of silicon polished slices
中標(biāo)分類:	H21    金屬物理性能試驗(yàn)方法
行業(yè)分類:	GB    國家標(biāo)準(zhǔn)
發(fā)布機(jī)構(gòu):	國家技術(shù)監(jiān)督局
發(fā)布日期:	1995-04-18
實(shí)施日期:	1995-1-2
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):	superseded
被新標(biāo)準(zhǔn)替代:	GB/T 6621-2009 硅片表面平整度測試方法
被替代日期:	2010-6-1
替代舊標(biāo)準(zhǔn):	GB 6621-1986
翻譯語言:	英文
文件格式:	PDF
中文字符數(shù):	10000 字
翻譯價(jià)格(元):	600.0
交付時(shí)間:	付款后 1~3 個(gè)工作日

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用相干光的干涉現(xiàn)象測量硅拋光片表面平整度的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于檢測硅拋光片的表面平整度，也適用于檢測硅外延片和類鏡面狀半導(dǎo)體晶片的表面平整度。