標準編號:	GB/T 13388-1992
中文名稱:	硅片參考面結晶學取向X射線測量方法
英文名稱:	Method for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
中標分類:	H21    金屬物理性能試驗方法
行業分類:	GB    國家標準
發布機構:	國家技術監督局
發布日期:	1992-02-19
實施日期:	1992-10-1
標準狀態:	superseded
被新標準替代:	GB/T 13388-2009 硅片參考面結晶學取向X射線測試方法
被替代日期:	2010-6-1
翻譯語言:	英文
文件格式:	PDF
中文字符數:	5000 字
翻譯價格(元):	600.0
交付時間:	付款后 1~3 個工作日

本標準規定了用Ｘ射線技術測量硅片參考面結晶學取向的方法。本標準適用于硅片參考面結晶學取向與參考面規定取向之間角度偏差的測量。硅片直徑為50～125mm，參考面長度為10～50mm。本標準不適用于硅片規定取向在與參考面和硅片表面相垂直的平面內的投影與硅片表面法線之間夾角不小于3°的硅片的測量。